Hynix und ISi Zusammenarbeit auf Z-RAM Zweikanalmagnetbandelement
Erfinderisches Silikon (ISi) und Hynix verkündeten gestern, dass sie beide werden, die an einer Vereinbarung, auf Hynix zukünftigen Produktarbeiten Linien eingeführt zu werden Z-RAM Zweikanalmagnetbandelement zu genehmigen sein. Die Zusammenarbeitsbemühung ist in der Lage, Hynix mit der Z-RAM Technologie zu fördern, die zu seinen D-RAM-Herstellungslinien integriert wird. Ähnliche Lizenz wurde zuerst AMD seit Ende 2005 für seine MikroprozessorProduktserien Entwicklung bewilligt.
Z-RAM oder manchmal bekannt als „nullkondensator RAM“ ist ein Zweikanalmagnetbandelement der niedrigen Kosten, das Vorteile über gegenwärtiger D-RAM- oder SRAM-Technologie in den Ausdrücken Dichte und Geschwindigkeit hat. Z-RAM Gedächtnis verwendet die Kapazitanz, die im Effekt des sich hin- und herbewegenden Körpers der SOI Oblate selbst gespeichert wird, die die benötigten Extrakondensatoren beseitigt. Mit nur einzelnem Transistor bitcell (ohne zusätzliche Kondensatoren), kann die Elektronikdichte verglichen mit D-RAM und SRAM erhöht werden. Dieses hilft, seine Größe fünfmal verglichen mit SRAM mehr zu schrumpfen und zweimal für D-RAM theoretisch. Bei der Senkung der Kosten und der Erhöhung der Dichte, kann die Latenz an der Kleinsendunggröße und an der Kurzschlussspurenlänge verbessertes außerdem liegen.
Eine der realen Anwendungen mit Vorteilen des Einsetzens von Z-RAM Technologie ist der Aufspan Cachespeicher für den Mikroprozessor. Mit der Zunahmegröße und der schnelleren Geschwindigkeit des Pufferspeichers, kann die Gesamt-CPU-Leistung erheblich verbessert werden. Zuerst kann Hynix sehr großen Investitions- und Prozesskompromiß gerade zur Geldstrafe erfahren - stimmen Sie seinen Entwurf und Herstellungsverfahren ab, aber der koreanische D-RAM-Gedächtnishersteller sollte langfristigen Gewinn erwarten, nachdem er vorbei zu dieser neuen Technologie transitioning.
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